Sodium Hydroxide Solution（氢氧化钠溶液），10N
Sodium Hydroxide Solution（氢氧化钠溶液），10N应存放于冷暗处，能放于普通冰箱内。放置时间不宜超过一周，倾注的平板培养基不宜超过3天。每批培养基均必须附有该批培养基制各记录副页或明显标签
Tris-HCl Buffer,1.0M,pH7.0
Tris-HCl Buffer,1.0M,pH7.0应存放于冷暗处，能放于普通冰箱内。放置时间不宜超过一周，倾注的平板培养基不宜超过3天。每批培养基均必须附有该批培养基制各记录副页或明显标签
RNase-free PVP K30溶液，20%
RNase-free PVP K30溶液，20%应存放于冷暗处，能放于普通冰箱内。放置时间不宜超过一周，倾注的平板培养基不宜超过3天。每批培养基均必须附有该批培养基制各记录副页或明显标签
Sodium Chloride Solution（氯化钠溶液），2M
Sodium Chloride Solution（氯化钠溶液），2M应存放于冷暗处，能放于普通冰箱内。放置时间不宜超过一周，倾注的平板培养基不宜超过3天。每批培养基均必须附有该批培养基制各记录副页或明显标签
RNase-free Sarkosyl溶液,10%
RNase-free Sarkosyl溶液,10%应存放于冷暗处，能放于普通冰箱内。放置时间不宜超过一周，倾注的平板培养基不宜超过3天。每批培养基均必须附有该批培养基制各记录副页或明显标签
RNase-Free Potassium Chloride Solution（无RNase的氯化钾溶液），1M
RNase-Free Potassium Chloride Solution（无RNase的氯化钾溶液），1M应存放于冷暗处，能放于普通冰箱内。放置时间不宜超过一周，倾注的平板培养基不宜超过3天。每批培养基均必须附有该批培养基制各记录副页或
Staining Buffer
Staining Buffer应存放于冷暗处，能放于普通冰箱内。放置时间不宜超过一周，倾注的平板培养基不宜超过3天。每批培养基均必须附有该批培养基制各记录副页或明显标签
SDS Solution（SDS溶液）,10%
SDS Solution（SDS溶液）,10%应存放于冷暗处，能放于普通冰箱内。放置时间不宜超过一周，倾注的平板培养基不宜超过3天。每批培养基均必须附有该批培养基制各记录副页或明显标签
RNase-Free Tris-HCl Solution，1M,pH8.0
RNase-Free Tris-HCl Solution，1M,pH8.0应存放于冷暗处，能放于普通冰箱内。放置时间不宜超过一周，倾注的平板培养基不宜超过3天。每批培养基均必须附有该批培养基制各记录副页或明显标签
Tris Buffered Saline(TBS),10X,pH7.6
Tris Buffered Saline(TBS),10X,pH7.6应存放于冷暗处，能放于普通冰箱内。放置时间不宜超过一周，倾注的平板培养基不宜超过3天。每批培养基均必须附有该批培养基制各记录副页或明显标签