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北京维意真空技术应用有限责任公司

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展位号: BIOON-251a278434c5

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PECVD设备

*** PE-CVD结构特点介绍: 1、PECVD系列真空管式高温烧结炉如图所示,集控制系统与炉膛为一体; 2、炉衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料,采用进口高温合金电阻丝为加热元件; 3、高纯石英管横穿于炉体中间作为的炉膛,炉管两端用不锈钢法兰密封,工件式样在管中加热,加热元件 与炉管平行,均

产品货号:wayes-PECVD 产地:北京 价格:询价 点击数:3405 商家询价

ALD原子层沉积镀膜设备

该系列PECVD系统具有固态等离子源、分开式反应气体进气系统,动态衬底温控,全面控制真空系统,采用集中现场控制总线技术的“值守精灵”控制软件,以及友好用户操作界面来操作。适用于室温至1400℃条件下进行的SiO2、SiNx,、 SiONx a-Si薄膜的沉积,同时可实现TEOS源沉积,SiC膜层沉

产品货号:wayesvac 产地:北京 价格:询价 点击数:6777 商家询价

真空吸附卡盘

真空吸附卡盘 • 不锈钢卡盘台尺寸4",平整度5μm,带3个真空吸附孔 • 不锈钢卡盘台尺寸6",平整度5μm,带4个真空吸附孔 • 静音无油气泵,7 升 / 分钟,可连续工作 恒温真空吸附卡盘 • 铝合金盘台尺寸4

产品货号:wayes-KP4 产地:北京 价格:询价 点击数:2447 商家询价

高低温真空探针台

小型台式电弧炉 主要用途:   用于熔炼高熔点金属/合金,电弧法制备大块非晶材料。适用于高校、科研院所及企业进行真空冶金新材料的科研与小批量制备。   系统组成:   主要由真空获得及测量系统,电弧熔炼、工作气路、水冷系统、电控系统及安装机台等组成。   技术指标:   电弧熔炼室

产品货号:wayes-DHL 产地:北京 价格:询价 点击数:2822 商家询价

磁控溅射镀膜机

小型等离子清洗机 整机尺寸:500×300×300(长×宽×高)mm 整机重量:35 Kg 反应舱规格:Φ165×L210 mm (耐热玻璃) 反应舱有效容积:4.5 L 输入电源:220 V/50Hz 整机输入功率:

产品货号:PECVD 产地:北京 价格:询价 点击数:3438 商家询价

热蒸发镀膜机

热蒸发镀膜机 *** 热蒸发镀膜机与手套箱一体化优点: 1.蒸发镀膜与手套箱环境有机融合,实现蒸镀、封装、测试等工艺无缝对接。 2.多组蒸发源,兼容有机与金属蒸镀,广泛用于钙钛矿太阳能电池/锂电池及OLED薄膜等研究系统。 *** 常规配置:

产品货号:wayes-ZF 产地:北京 价格:询价 点击数:3002 商家询价

球差电镜气路

详询4006-521-586,或是登录www.wayes-vac.com了解详情 *** 实验室气路系统定制 提供BA级别/EP级别实验室/实验设备气路布局的设计、施工、检漏服务。

产品货号:wayesvac 产地:北京 价格:询价 点击数:2621 商家询价

源瓶

维意真空ALD/MO源瓶 *** 源瓶(起泡器)用于固态、液态及气态超纯物料类的封装,涉及微正压、 常压、中低压的危险化学品,所以对源瓶的安全性和洁净度提出严苛的要 求。 *** 源瓶特点: 1、所有管件采用316L不锈钢,内部经400目机械抛光和电化学抛光,Ra≦0.2

产品货号:wayes-YP 产地:北京 价格:询价 点击数:2275 商家询价